中微公司:积极布局用于Mini/Micro LED生产的MOCVD设备
2021-06-02 10:51 [编辑: MiaHuang]

6月1日,中微公司发布最新投资者调研报告,分享MOCVD业务进展等情况。

2021年第一季度,中微公司营业收入约6亿元,同比增长约46%,其中刻蚀设备实现收入约3.5亿元,MOCVD设备实现收入约1.3亿元,分别同比增长了约64%和77%。

中微公司称,2021年一季度刻蚀业务和MOCVD业务均实现高速增长,毛利率为40.92%,同比增长7.06%,主要是MOCVD设备毛利率有一个比较好的改善。

中微公司产品定位于高端半导体设备,在刻蚀设备方面,公司设备已应用于全球先进的7纳米、5纳米及其他先进工艺集成电路加工制造生产线;在MOCVD设备领域,公司MOCVD设备持续在行业领先客户生产线上大规模投入量产,保持在行业内的领先地位。

中微公司表示,公司关注未来MOCVD设备用在显示领域的进展。其中,用于MinLED生产的MOCVD设备方面,公司前期与多家客户合作,根据客户需求进行产线评估验证并取得良好进展。

值得一提的是,中微公司MOCVD设备目前在氮化镓基LED领域取得了领先的优势,未来会在保持当前市场地位和技术竞争优势的基础上,在MiniLED新型显示及功率器件等领域进行布局。

据悉,目前中微公司的在研项目中,除了有用于MiniLED大规模生产的高输出量MOCVD设备的研发,还有用于Micro LED应用的新型MOCVD设备的研发。

去年中微公司研发投入总额为6.4亿元,同比增长近40%,其中就包括投入研发 MiniLED大规模生产的高输出量MOCVD设备、Micro LED应用的新型MOCVD设备等。

图片来源:拍信网正版图库

此外,ICP刻蚀产品方面,中微公司电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产,截止2020年底,公司的ICP设备PrimoNanova设备已有55个反应台在客户端运转,经过客户验证的应用数量也在持续增加。

另外,根据客户的技术发展需求,中微公司正在进行下一代产品的技术研发,以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3DNAND芯片等产品的ICP刻蚀需求,并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。

中微公司看好薄膜设备未来的市场成长,已就产品开发组建了专业的技术和营运团队,目前在前期产品研发的基础上进行必要的准备工作。

据介绍,中微公司现有的产品价格稳定。公司将进一步强化在高端设备领域的技术优势并丰富产品结构,将不断推出新的、更有竞争力的产品,以提升公司的盈利能力和综合竞争实力。

中微公司表示,目前建立了全面的供应商评价管理体系,公司主要零部件供应商数量较多且保持良好的合作关系,单一供应商采购金额占比不高,其中核心零部件的采购采取多厂商策略,分布在全球各地。

谈及公司未来发展战略规划时,中微公司称将采取三个维度的发展策略。

第一个维度是从目前的等离子体刻蚀设备,扩展到化学薄膜设备,和刻蚀及薄膜有关的测试等关键设备;

第二个维度是扩展在泛半导体设备领域的产品,从已经开发的用于制造MEMS和影像感测器的刻蚀设备、制造蓝光LED的MOCVD设备,扩展到更多的微观器件加工设备,及制造深紫外LED、Mini/Micro LED等微观器件的设备产品;

第三个维度是探索核心技术在环境保护、工业互联网等领域,以及在国计民生上的新的应用。

同时,公司将在适当时机,通过投资、并购等外延式生长途径,扩大产品和市场覆盖,向全球集成电路和LED芯片制造商提供极具竞争力的高端设备和高质量服务,为全球半导体制造商及其相关的高科技新兴产业公司提供加工设备和工艺技术解决方案。(LEDinside Mia整理)

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