德国LED设备大厂AIXTRON AG指出，新一代MOCVD Platform AIX G5 HT系统已达成生产力目标。

据悉，新系统在600 mbar以上的高压下能以极高的速率完成高质量的氮化镓沉淀，产量超过前一代系统的1倍，氮化镓/氮化铟镓也有优异的均一性。在无反应炉烘培或替换任何零件的情况下，上述晶膜的生成在台湾晶电厂区连续进行。目前，此MOCVD反应炉正要转换至量产阶段。