阳明交大与Picosun合作提升Micro LED外量子效率
2022-04-0712:06:20[编辑: Akwan]

4 月 5 日,原子层沉积(ALD)薄膜涂层技术供应商Picosun在官网发文称,在台湾地区阳明交大开展的Micro LED研究中,Picosun 原子层沉积 (ALD) 技术在增强Micro LED 的电光特性方面发挥了至关重要的作用,助力Micro LED外量子效率进一步提升与实现全彩化显示。

阳明交大与Picosun合作提升Micro LED外量子效率

图片来源:Picosun官网

Picosun表示,使用介电薄膜作为钝化材料是抑制悬空键以及提高 LED 输出功率和外量子效率(EQE)的常用技术。阳明交大在研究中比较不同尺寸III 族氮化物Micro LED,在采用和没有采用原子层沉积氧化铝钝化技术时的外量子效率。结果表明,经原子层沉积氧化铝钝化处理之后,5 µm × 5 µm的 Micro LED 外量子效率提高了70%,而 10 µm ×10 µm 的Micro LED外量子效率提高了60%。

此外,为了实现Micro LED全彩化显示,阳明交大团队开发了一种自动图案化量子点的喷墨打印技术。该方案可以显著提高彩色像素的精度,满足高分辨率要求,并通过Picosun的 ALD钝化技术成功防止量子点的光氧化降解。经过 500 小时的环境可靠性测试后,显示色域仍保持在较高水平。

阳明交大教授郭浩中表示,"Micro LED 一直是应用于下一代显示产品的的颠覆性技术。在越来越多的应用领域中,Micro LED展现了其长寿命、高功效和高亮度等优点。通过量子点技术,Micro LED 可应用于VR/MR等领域,因为在这些应用领域,使用单色蓝光Micro LED芯片就能够满足需求,有利于降低产品制造成本。而我们的研究证明,原子层沉积钝化技术在即将到来的纳米级器件中发挥着关键作用。"

Picosun 集团产业业务领域副总裁 Juhana Kostamo 表示:"Picosun 的原子层沉积技术已在许多知名 LED 制造商中得到生产验证。原子层沉积薄膜拥有卓越的保形性和均匀性,以及在极低薄膜厚度下也能确保可靠、无针孔封装能力的关键优势。此外,原子层沉积工艺可以在中等温度下运作。"

值得注意的是,2021年6月,阳明交大郭浩中教授团队使用Picosun ALD设备沉积出钝化层和阻隔膜,使UVC LED的使用寿命延长、可靠性增强,并改善LED昂贵的封装程序,降低生产成本。

而Picosun与阳明交大保持着长期合作关系,并在2021年开展了第二期的合作计划,持续在光电、半导体及生物医学领域联合开发ALD最新的技术应用。(LEDinside Irving编译)

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