在今年的LED显示行业两大盛事ISLE 2026和infocomm2026展会上，作为Micro-LED产业化领域的先锋力量，辰显光电携TFT基Micro-LED产品矩阵重磅亮相，包括270英寸 8K TFT基Micro-LED显示屏、13.55英寸P0.7 TFT基Micro-LED大模组显示屏、19英寸P0.4 TFT基Micro-LED透明屏、27英寸P0.7 TFT基Micro-LED纹理屏等多个全球首款创新产品。
辰显光电以覆盖多场景的创新应用和颠覆性视效表现，向业界全方位展示了其在Micro-LED技术研发与量产落地的深厚积淀，成为展会焦点之一。
8K TFT基Micro-LED显示屏
这一系列从样机到成熟产品矩阵的演变，不仅凸显了辰显光电在Micro-LED领域技术研发与产品创新的头部地位，更为新型显示行业的技术演进与应用拓展明确了全新路径。
在2026集邦咨询新型显示产业研讨会（DTS 2026）上，辰显光电资深研究员姚志博，解密了公司如何通过TFT基Micro-LED技术快速实现这些令人瞩目的产业化成果。
辰显光电资深研究员姚志博
辰显光电为何坚定选择TFT玻璃基？
在探索Micro-LED显示技术路径的过程中，基板的选择直接决定了最终产品的物理性能与显示上限。辰显光电则坚定地选择了以TFT玻璃基为技术核心。
相比传统的PCB基板，TFT玻璃基板具备极高的物理稳定性与平整度。在长期使用或受热环境下，PCB基板容易产生微小的翘曲变形，这对于追求极致视觉效果的大尺寸显示屏而言是致命的。而玻璃基板的硬度与耐温热膨胀系数更为优越，能够将物理拼缝精确控制在20微米以内。
这种基板优势不仅体现在物理形态上，更在于其对先进驱动技术的兼容。TFT玻璃基能够实现复杂的半导体制程工艺，从而支持AM（有源矩阵）驱动方式。
与传统PCB基LED产品普遍采用的PM（无源矩阵）驱动不同，AM驱动可以实现像素级的独立精准控制。在画质表现上，AM驱动彻底消除了高频扫描可能带来的屏闪或亮线现象，让画面更加稳定均匀。在能效管理方面，AM驱动能够有效降低瞬时亮度，延长发光时长，从而显著降低功耗。
根据辰显光电披露的测试数据，其TFT基Micro-LED显示屏在600nits亮度下的功耗仅为250W/m2。相比PCB基Mini-LED显示屏，其节能效率提升了约37%。
更重要的是，更低的功耗意味着更小的产热量，屏幕表面的温升（ΔT）可控制在15℃以内。这种“冷屏”特性对于未来高端家庭影院等近距离观看场景至关重要，它不仅提升了体感的舒适度，也满足了家用电器对能耗与安全性的严苛认证需求。
同时，玻璃基板的高精度制程能够兼容更小尺寸的LED芯片，这在降低单颗Micro-LED成本的同时，也为实现更高的像素密度预留了空间。
Micro-LED显示屏四大难点，辰显光电逐一攻破
尽管TFT基Micro-LED在理论上具备较多优势，但大尺寸拼接显示屏的量产过程仍需面对显示均匀性差、坏点频发、微弱拼缝以及视角分屏四大核心技术难点。针对这些问题，辰显光电给出了系统性解决方案。
在画质均匀性这一首要难题上，由于目前LED晶圆的来料均匀性往往仅能达到60%左右，波长误差甚至可达12nm以上，若不处理，LED显示屏会出现明显亮度不均的块状Mura现象。
为此，辰显光电全球首创了混Bin（Vistar Micro Binning）与数字校正（Demura）相结合的技术方案。通过高速检测系统获取每颗LED的波长、亮度及外观数据，并利用自研AI算法对芯片进行重新排布组合，确保相邻像素间的视觉一致性。这套方案不仅将LED的利用率从原始的40%提升至80%，降低了约50%的芯片成本，还将最终产品的亮度均匀性提升至98%以上。
在解决屏幕坏点频发的问题上，巨量转移技术的精度与效率则是关键。过往直接巨量转移往往会带来大量的坏点，从而增加制造成本。
辰显光电通过采用已知合格裸片（Known Good Die（KGD））的巨量转移方式，并采用多重修复技术使得一次转移良率能达到99.995%、巨量修复后良率99.9999%的高水平，并最终实现出货产品“0”坏点的成果。
而为了实现真正意义上的无缝拼接，辰显光电不仅建立了自己的拼接光学表征标准与规范，还对边缘像素结构进行了深度优化。
通过自主研发的TFT背板侧边走线与双面工艺技术，公司成功消除了屏幕四周的边框，使自由拼接成为可能。配合特殊的玻璃侧壁保护工艺与封装材料优化，屏体间的物理间隙被控制在20μm以内（约为头发丝直径的五分之一），且拼缝处的黑度与显示区域保持高度一致，解决了传统拼接屏缝隙处反光或黑度异常的问题。
此外，针对LED芯片在不同视角下可能出现光形差异导致的分屏Mura问题，辰显光电引入了微透镜阵列（MLA）结构设计。由于芯片制造过程中的外延厚度与刻蚀控制存在微小偏差，传统方案在大视角下的亮度差异往往大于10%。
通过MLA结构对发光路径进行二次校正，辅以高效的散光设计，辰显光电成功将大视角下的亮度差降低至2%以内，确保了在不同观看位置下画面色彩与亮度的高度一致。
辰显光电三步走释放Micro-LED技术红利
得益于上述底层技术的逐一突破，辰显光电得以从Micro-LED技术研发阶段快速切换至产业化布局的快车道，并形成“三步走”的阶梯式发展战略。
战略的第一步是深耕大尺寸商业显示市场。辰显光电选择从控制指挥中心、专业影院及高端零售等严苛场景切入。这些领域对屏幕的可靠性、平整度以及“零拼缝”视觉效果有刚性需求，且价格敏感度相对较低，是Micro-LED优势的最佳释放点。
随着2024年底，由辰显光电建设的中国大陆首条大尺寸TFT基Micro-LED量产线在成都成功点亮，这一阶段的商业化目标已进入加速期，该产线总投资额达30亿元，规划产能将直接推动Micro-LED从高端定制化向规模化生产转变，2025年，辰显光电成功实现量产出货。
战略的第二步是进军高端家庭影院市场。姚志博指出，家庭环境对屏幕的需求更趋向于护眼、低能耗与免维护性。辰显光电的AM驱动无频闪特性以及玻璃基板极低的发热量，恰好解决了传统大屏“烤脸感”的痛点，符合高端别墅、大平层等家用场景对设备舒适度的追求。目前，公司已展示了全球首款88英寸P0.5及135英寸P0.7等符合黄金比例的箱体产品，为进入家庭市场做好了产品储备。
战略的第三步则是实现全场景普及与跨界融合。辰显光电未来将推动Micro-LED技术下沉至更广阔的消费电子市场，如车载显示、视网膜级穿戴设备等。同时，辰显光电将致力于将Micro-LED打造成一种平台型技术，通过巨量集成技术在面板上集成微纳传感器件，拓展其在柔性终端、裸眼3D等领域的想象空间。
小结
目前，Micro-LED技术正处于高速成长的起跑线上，而辰显光电通过TFT基Micro-LED技术在这场显示变革中率先取得优势。
面对未来，辰显光电将不仅关注自身的参数突破，更在于构建包括上下游设备商、材料商及终端品牌在内的产业共同体，通过创新驱动的生态联动，推动国产Micro-LED走向大规模应用新纪元。 （文：LEDinside Irving）
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