LED与半导体设备厂商美商Veeco表示，将于2010年10月14日~10月16日在中国深圳的第七届中国国际半导体照明展(China SSL) 展示新品。

Veeco的摊位号码，HALL 9, Booth No. 507-509

Veeco推出TurboDisc® K465i™ ，一款用于生产高亮度LED（HB LED）的氮化镓(GaN) 金属有机化学气相沉淀(MOCVD)设备，日前经过LED产业内的Veeco 用户试用后， K465i 很快获得量产认可，该公司已经接到了亚太区域多个LED 用户的订单。
Veeco指出，这次的新产品TurboDisc K465i 以Veeco 久经考验的K 家族平台为基础，结合业界最高生产效率，在5nm bin误差范围内，同级最优LED的良品率接近90% ，大幅提高中bin率。 TurboDisc K465i 采用完全自动化运作，例行维护后在很短的时间内即可继续生产动作，增加生产效率。在同类产品竞争中，不仅生产效率最高，还能节约大量成本。

TurboDisc K465i 设计：均匀性和可重复性

TurboDisc　K465i GaN MOCVD 系统装置的核心，是Veeco正在申请专利的Uniform FlowFlange 技术。它的设计是用来产生能均匀地流过LED晶圆的烷基和氢化物气体的均匀气流型态，该设备打造出来的LED晶粒可获得卓越的均匀性和可重复性，K465 i也采用了Veeco 最先进的反应炉技术。 FlowFlange 的简化设计提供了快速制程优化的轻松除错功能，适用晶圆大小达8 英吋，同时该设备维护后的快速复产能力也保证了LED产业界最高的生产效率。