Semilab光学检测方案助力Micro LED技术走向量产
2021-08-20 01:44 [编辑: MiaHuang]

近年来,Micro LED成为显示市场上的一个热点技术,相比于已经量产的LCD、OLED等显示技术,Micro LED在亮度、色彩、视角、对比度、分辨率和寿命等大多数技术维度上都有着更为优异的性能表现。

目前,产业链上下游越来越多的公司都参与到Micro LED技术开发中来,这也在客观上加速了Micro LED的量产进程。但要实现真正意义上的量产,Micro LED还需要克服诸多技术上的难点,包括外延片的波长均匀性、LED尺寸的微缩制程、巨量转移技术、检测与维修技术、驱动电路的设计等等。

Semilab成立于1989年,是一家来自欧洲的半导体检测设备生产商,总部位于匈牙利的布达佩斯,经过30多年的技术沉淀,目前已经成长为泛半导体行业纯光学/电学检测设备的领先企业,也是泛半导体行业第4大Pure Metrology供应商。

Semilab在匈牙利、美国、德国,丹麦和中国设有产品研发与生产中心;销售及技术服务网络遍及全球泛半导体行业分布的国家和地区;拥有众多物理学家,并在电学、光学等领域拥有100多种专利测量技术;主要为半导体、显示、太阳能、LED及科研行业提供测量技术、测量设备和测量整体解决方案。

基于对Micro LED技术和市场前景的看好,Semilab结合自身深厚的技术沉淀和丰富的行业经验,与业界伙伴深度合作,开发出针对Micro LED不同制程阶段的检测技术解决方案。

在Micro LED制程中,需要对外延层薄膜、Micro LED器件制造过程的薄膜及驱动器件薄膜的膜厚及膜质进行精确的监控。针对薄膜测试需求,Semilab推出μSE-2500设备,基于业界领先的光谱椭偏仪技术,配合超微光斑及材料数据库,可以对CVD、PVD、Coater、Evaporation等制程薄膜厚度及质量,进行在线、无损和快速准确的测试。

Semilab μSE-2500设备

椭偏仪测量原理图

针对器件性能测试及良率提升要求,2021年Semilab针对Micro LED市场推出了LumiPix设备,结合明场检测(BF)、光致发光(PL)技术、可选择的暗场检测(DF)及光谱判定技术,可对目标晶圆进行快速、精确的缺陷检测。

Semilab LumiPix Series

明场图像被认为是晶圆表面的缺陷信息,LumiPix的明场检测能快速对明场图像进行处理,得到明场图像中的缺陷特征和坐标信息。而光致发光图像对应着半导体材料层的光致发光信息,通过材料的发光特性来得到器件的缺陷信息,因而这种信息不止包含了来自表面的结构缺陷,也包含了来自于器件深层的缺陷信息。

通过对比明场图像和PL图像,可以更加精准地对缺陷进行分类,去发现真正对良率造成影响的器件,从而提升检测的效率。Semilab开发的算法也能够对缺陷进行快速分类,从而给出整面晶圆的统计数据,给长期的监控提供依据。

Semilab伴随中国泛半导体行业发展二十余载,扎根依托于中国市场,业务覆盖了中国90%以上的泛半导体行业客户,深切理解客户需求,同时拥有半导体、显示、太阳能、LED、科研行业的丰富的应用和技术服务经验,为客户提供个性化的产品和服务。

目前Micro LED技术开发方兴未艾,各种不同的技术开发路线并行不悖,但都处于积极开发阶段,远未形成统一的技术方案和标准。Semilab表示将持续加大研发投入,与业界伙伴携手合作,针对Micro LED开发中的检测需求,提供高标准,定制化的系统解决方案,共同应对技术挑战,助力Micro LED显示技术的量产实现。(来源:Semilab)

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