近日，晶洲装备自主研发的国产首台AMOLED用G8.6氢氟酸清洗机顺利交付客户。

据介绍，氢氟酸清洗在显示面板制程中承担着多种不可替代的功能，其清洗效果直接关系到器件结构的最终性能、效率与稳定性，进而影响产品良率。它不仅要清除基板表面的颗粒、金属离子与有机残留物，还需实现近乎原子级的表面平坦度与良好钝化，保障后续制程的工艺可靠性。

晶洲装备表示，该设备的成功交付，标志着公司已全面完成从阵列(Array)、蒸镀(OLED)、成盒(CELL)、彩膜(CF)到触控(TSP)的全制程全尺寸湿法装备应用布局。

图片来源：晶洲装备

资料显示，晶洲装备专注于为平板显示、光伏、半导体三大领域提供高端湿制程装备及工艺技术。围绕高精密清洗、涂布、显影、湿法刻蚀、光阻剥离等核心工艺，公司已先后完成了G2.5 ~ G10.5世代线尺寸湿法工艺设备自主研发。

值得一提的是，据必联网消息，晶洲装备旗下多款设备已成功中标TCL华星、维信诺、京东方等头部面板企业的项目，规格涵盖第6代、第8.6代等LCD/OLED面板生产线。（集邦Display整理）

转载请标注来源！更多LED资讯敬请关注官网(www.ledinside.cn)或搜索微信公众账号(LEDinside)。