55nm PSM相移掩膜版落地，清溢光电加码半导体光刻环节-LED在线

9月29日，清溢光电发布自愿性披露公告称，公司55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户完成产品规格确认并收到采购订单，产品现已交货，正式进入客户上线认证阶段。

PSM相移掩膜版主要用于芯片制造中对图形精度要求较高的关键光刻层，覆盖逻辑、存储、特色工艺及功率器件等高精密图形场景。

其核心价值在于通过相移原理提升光刻分辨率、改善图形对比度，从而拓宽光刻工艺窗口。对掩膜版厂商而言，PSM类产品对制造精度和缺陷控制等能力要求较高，是半导体掩膜版产品向更高制程节点拓展的重要方向之一。

清溢光电表示，若该产品顺利完成认证并实现规模化供货，将进一步完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，增强其在国内高端掩膜市场的竞争力。

清溢光电是国内最早实现平板显示掩膜版规模化的企业之一，在中小尺寸及G8.5以下高阶显示掩膜版领域稳居国内前列，已进入京东方柔性OLED供应链。

2025年，半导体掩膜版业务约占清溢光电营业收入的17%。从制程推进节奏看，清溢光电此前已实现180nm节点半导体掩膜版规模化量产、150nm节点小批量量产，并稳步推进130nm—40nm工艺节点PSM与OPC工艺产品的研发，同时启动28nm节点工艺开发规划。

佛山新工厂预计将在2026年实现PSM技术掩膜版量产，为高端产能释放提供支撑。本次55nm PSM产品的交付，是清溢光电从显示到半导体、从成熟制程到先进制程升级路径上的关键落子。

业绩层面，清溢光电上半年业绩呈现利润增长。2026年上半年，清溢光电实现营收6.54亿元，同比增长5.08%；归母净利润1.18亿元，同比增长28.16%，其中二季度单季净利同比增长54.50%。

分业务看，平板显示掩膜版收入5.28亿元保持稳增，半导体掩膜版收入1.01亿元处于爬坡阶段。多家券商研报认为，在掩膜版国产替代加速的背景下，公司平板显示与半导体"双翼"布局有望驱动业绩持续释放。

对于本次55nm PSM相移掩膜版交付，清溢光电也提示，上线认证是客户验证的重要环节，认证周期与结果存在不确定性，尚不能确定何时实现批量供货。此外，产品上线后的销售情况还受下游半导体行业景气度、市场推广等因素影响。（来源：集邦Display整理）

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