近日，半导体检测设备供应商Semilab正式发布了全新的LumiPix-3000光致发光（PL）检测设备。

 

 

图片来源：Semilab

 

据Semilab介绍，该设备专为Micro LED器件设计，具备全晶圆成像能力，通过高精度的缺陷分析技术，解决Micro LED制造过程中面临的亮度和波长一致性挑战。LumiPix-3000采用了先进的光致发光技术，配备多种激发光源选项及高分辨率成像模块，能够对晶圆进行非破坏性的全面计量分析。

 

该设备具有广泛的材料兼容性，支持InGaN和AlInGaP等常见的Micro LED材料体系，并可处理最大尺寸达12英寸的晶圆。

 

在具体性能方面，LumiPix-3000通过分析捕获的PL图像及相关数据，能够精准识别包括强度变化、波长偏移以及形态异常在内的多种缺陷。这种基于图像的非接触式检测方法，不仅避免了对微小LED芯片造成物理损伤，还能满足现代工业生产线对高吞吐量和高精度的标准要求。该设备为制造商在早期工艺阶段发现并剔除不良品提供了有效的技术手段，有助于降低后续制程成本。

 

资料显示，Semilab总部位于匈牙利布达佩斯，公司一直致力于光学、电学及材料特性测量技术的研发与应用。Semilab的产品线涵盖了从光伏、半导体到平板显示等多个高科技领域，拥有包括椭圆偏振光谱、寿命测试、方块电阻测量等在内的多项核心专利技术。

 

在Micro LED领域，Semilab近年来动作频频，持续强化其在新型显示检测市场的布局。鉴于Micro LED技术对芯片微缩化和巨量转移工艺的严苛要求，良率管理成为行业痛点。

 

除了此次发布的PL检测设备外，Semilab还开发了一系列针对Micro LED制程的综合解决方案。例如，Semilab的光谱椭偏仪（SE）被广泛用于测量外延层的厚度与光学常数，而非接触式方块电阻测量仪则用于监控透明导电膜及金属电极的工艺质量。

 

Semilab表示，公司未来将持续关注Micro LED显示技术的发展趋势，旨在通过多维度的检测工具组合，协助客户在Micro LED的外延生长、芯片制备及面板键合等关键环节实现更为严格的质量控制，从而推动Micro LED显示技术的规模化量产进程。（LEDinside整理）

 

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